UV (<420nm) DMD

為積層製造和微影實現精密、高傳輸速率照明控制
檢視所有產品

我們的紫外線數位微鏡裝置 (DMD) 可為需要精確度與可重複性的工業製程提供高解析度、高傳輸速率的照明控制。這些裝置針對低至深 UV 頻譜的波長最佳化,支援直接成像、3D 列印和半導體微影等應用。我們的裝置結合光學效率與可擴充設計,協助工程師在生產環境中實現更快速的工作流程、更清晰的功能和長期可靠性。

    為何選擇 TI DLP 紫外線 DMD?

    高速&傳輸速率
    準確度&精度
    可靠的 MEMS 技術

    適合工業創新的 DLP 技術

    推動數位製造的創新

    採用 DLP 技術的數位成像提供了基於掩碼的方法之替代方案。DMD 可作為可編程光罩使用,提供快速、高解析度、可擴展且精確的列印,引導光圖案以曝光光敏材料。消除光罩可降低材料成本、縮短光罩製造時間、消除光罩庫存管理,並加快開發速度。

    高解析度和速度支援快速圖案變更和立即校正。這些優勢可有效擴展、提高產量並促進面板級生產。DLP 直接成像支援 PCB 製造、平面顯示器維修、雷射標記、進階封裝及其他曝光應用。


    Application brief

    How DLP Technology Enables Panel-level Advanced Packaging

    此應用簡介涵蓋先進封裝的趨勢,以及 DLP 技術如何發揮此製程的潛能。

    TI DLP<sup>®</sup> 技術為先進封裝提供高精密度數位微影技術

    新型數位微鏡裝置搭載即時校正功能,使設備製造商得以實現大規模高解析度印刷,最大化產出率與良率

    DLP991UUV現行

    0.99 吋高速 2176 x 4096 UV A 型 DLP® 數位微型鏡裝置 (DMD)

    DLP991U現行

    0.99 吋 4K 高速 DLP® 數位微鏡裝置 (DMD)

    DLP9000XUV現行

    0.9 吋 WQXGA 高速 UV DLP® 數位微型反射鏡元件 (DMD)

    採用 DLP 技術的高解析度、高速 3D 列印 

    TI 3D 列印應用的 DLP 技術可透過數位微鏡裝置 (DMD) 投射 2D 結構光圖案,以固化光敏樹脂或融合粉末材料。DLP 技術透過並聯暴露整個層,可提供比雷射等逐點方法更快的列印速度和更高的解析度。

    透過可在廣泛的頻譜中進行可編程照明控制,DLP 解決方案可為各種積層製造程序提供靈活性。高光學效率、精確像素配置及可重複的準確度可實現精細功能解析度、平順表面粗糙度,以及從快速原型設計到生產級 3D 列印的可靠擴展。


    Application note

    Wavelength Transmittance Considerations for DLP DMD Windows (Rev. E)

    此報告提供不同波長頻譜區域 DMD 窗的透射率相關資訊。要了解 DMD 系統整體光學效率,就必須了解透射率。
    Application note

    System Design Considerations Using TI DLP® Technology in UVA (363 – 420 nm) (Rev. B)

    使用設計在 UV 頻譜 UVA 區域運作的 DMD,檢查散熱、工作週期、一般光學、連貫性及高縮倍的設計考量。

    Technical Resources

    DLP Labs:燈光控制

    本訓練從 DLP® 技術基礎知識和機械考量開始。之後還有專門設計的應用特定主題,幫助您輕鬆快速地完成設計流程。
    White paper

    High accuracy 3D scanning using Texas Instruments DLP® technology for structured (Rev. A)

    進一步了解 DLP 3D 掃描與機械視覺技術、應用並比較元件,以尋找適合您結構光應用的產品。
    Application note

    Wavelength Transmittance Considerations for DLP DMD Windows (Rev. E)

    了解電磁頻譜區域的 DMD 窗和透射效率。

    UV (<420nm) DMD 設計與開發

    開始設計

    研究適合您的應用的晶片組、利用評估模組以快速為您的設計進行原型設計、下載最新的可用軟體、選擇光學模組製造商、利用線上工程支援解決您的設計問題,並且使用第三方設計和開發生態系統以加速將您的解決方案部署至市場。

    使用這些強大的評估模組 (EVM) 和技術文件,開始評估您應用的數位微型反射鏡元件 (DMD) 和控制器

    進一步了解

    下載適合您 DLP 控制器、軟體開發套件 (SDK)、圖形使用者介面 (GUI) 或應用程式編程介面 (API) 的韌體 (FW)

    進一步了解

    選擇包含數位微型反射鏡元件 (DMD) 在內的現成光學模組製造商,加快上市速度

    進一步了解

    獲得我們工程師快速可靠的技術支援,他們將回答您的技術問題並分享知識,以解決您的設計問題

    進一步了解

    與各種設計與開發生態系統第三方合作,提供光學模組、設計服務、專業軟體或專業元件

    進一步了解
    30 SEP 2025 | COMPANY BLOG

    突破光罩限制:DLP® 技術如何透過先進封裝實現新型運算解決方案

    半導體產業邁向先進封裝的趨勢,要求微影技術同步進化 —— 而 DLP 技術是實現這一變革的關鍵。
    Read more