工業數位微鏡裝置（DMD）

利用 DLP 技術實現可靠的無光罩微影

採用 DLP 技術的數位成像提供了基於掩碼的方法之替代方案。數位微鏡裝置 (DMD) 可作為可編程光罩使用，提供快速、高解析度、可擴展且精確的列印，引導光圖案以曝光光敏材料。消除光罩可降低材料成本、縮短光罩製造時間、消除光罩庫存管理，並加快開發速度。

高解析度和速度支援快速圖案變更和立即校正。這些優勢可有效擴展、提高產量並促進面板級生產。DLP 直接成像支援 PCB 製造、平面顯示器維修、雷射標記、進階封裝及其他曝光應用。

實現高速、可編程結構光和圖案投影

DLP 技術為 3D 掃描和機械視覺應用提供高速、完全可編程的圖案投影。DLP 技術透過可擴充架構、精確的像素控制和快速的資料速率，實現結構化光設計，即時擷取詳細的深度和尺寸資料。

全方位的第三方光學模組、演算法軟體和設計工具可幫助加快開發速度，支援在機器人、工業自動化、測量和品質檢測領域的應用。

利用 DLP 技術，加速工業與桌上樹脂 3D 列印

DLP 技術透過將 UV 光投影以逐層固化光聚合物材料，實現快速、可靠且精確的樹脂基積層製造。與逐點方法不同，DLP 印表機可一次暴露整個層，進而提供更快的列印速度、精細的功能解析度和卓越的重複性。

通過覆蓋 343nm 到 2,500nm 的波長支援，DLP 技術可適應各種樹脂，適用於工業、牙科、珠寶和自訂製造應用。

實現精確、高速光學切換和訊號控制

DLP 產品也可實現快速、精確且可靠的光學網路元件，如切換、衰減器、監控和波長調節器，其中包括可重組光塞取多工器 (ROADM)。數位微鏡裝置 (DMD) 可實現精確的光控制，且具備高隔離、快速切換速度，及 355nm 至 2,500nm 的廣泛波長支援。

這些優勢可強化光學訊號路由，並實現可擴充、節能的網路設計。

以 DLP 技術打造精巧、高性能的光譜儀

每個材料都與光源以獨特的方式交互。DLP 技術可實現快速、準確且精巧的光譜儀，可分析這些光學特徵，以識別材料並描述材料的特徵。由稜鏡或繞射光柵分散的光線投射到 DMD 上，其將所選波長引導至單一元件偵測器，以進行精確的量測。

此方法可縮減系統尺寸與成本，同時提高實驗室、現場與工業光譜應用的靈敏度、速度與多元用途。